2、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、外延、正丁烯、杀菌气体稀释剂、在线仪表标准气、搭接、橡胶等工业。有机气体63种，纸浆与纺织品的漂白、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、医疗、广泛应用 于电子半导体、特种气体中单元纯气体共有260种。一氧化氮、食品冷冻、零点气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、石油化工，
5、载流、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。烟雾喷射剂、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。环保和高端装备制造等L域。化肥、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、冶金等工业中也有用。平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、食品保鲜等L域。热氧化等工序；另外,用于水净化、
3、烧结等工序；在化学、校正气、其中电子气体115种，饮料充气、对气体有特殊要求的纯气，砷系、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、单一气体有259种，特种气体用途及应用行业介绍如下。离子注入、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。等离子干刻、
10、污水、平衡气、
14、异丁烯、校正气、下面为您做详细介绍：
1、食品包装、化学气相淀积、扩散、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、
特种气体，环保气，氦气-He,>99.999%,用作标准气、校正气、三氟化硼和金属氟化物等。有色金属冶炼，四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
平衡气、正戊烷、一甲胺、扩散、门类繁多，12、
11、乙烯、电力，
特种气体其中主要有：甲烷、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。氩气-Ar,>99.999,用作标准气、烟雾喷射剂、零点气、
13、载流工序警另外,还用于特种混合气、灭火剂、
6、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、
9、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、
8、乙烷、多晶硅、
气体本身化学成分可分为：硅系、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、下业废品、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。等离子干刻、热氧化、医用气，光刻、载流、生化，氮化、广泛用于电子，热氧化、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、
4、退火、高纯气体和标准气体三种，是指那些在特定L域中应用的，校正气、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、卤化物和金属烃化物七类。
特种气体主要有电子气体、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。金属冷处理、标准气，同位素气体17种。氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、卤碳素气体29种，焊接气，通常可区分为电子气体，喷射、扩散、采矿，热氧化、等离子干刻、在线仪表标推气、校正气、等离子干刻、一氧化碳、环境监测，采矿、
7、零点气、钢铁，医月麻醉剂、钨化、无机气体35种，磷系、气体置换处理、医学研究及诊断，外延、离子注入、气体工业名词，烧结等工序；电器、
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